- Tytuł:
- Zatosowanie technik plazmowych do płytkiej implantacji jonów
- Współwytwórcy:
-
Politechnika Wrocławska. Wydział Elektroniki Mikrosystemów i Fotoniki
Politechnika Łódzka. Wydział Mechaniczny. Instytut Inżynierii Materiałowej
Szmidt, Jan
Gronau, Ryszard
Przemysłowy Instytut Elektroniki
Marendziak, Andrzej
Gotszalk, Teodor Paweł
Politechnika Warszawska. Wydział Elektroniki i Technik Informacyjnych. Instytut Mikroelektroniki i Optoelektroniki
Konarski, Piotr
Rylski, Adam - Data publikacji:
- 2004
- Dostawca treści:
- Academica
Artykuł