Informacja

Drogi użytkowniku, aplikacja do prawidłowego działania wymaga obsługi JavaScript. Proszę włącz obsługę JavaScript w Twojej przeglądarce.

Wyszukujesz frazę "krzemowa warstwa epitaksjalna" wg kryterium: Temat


Wyświetlanie 1-7 z 7
Tytuł:
Materiały Elektroniczne 1980 nr 3/4(31/32)
Przyczyny rozrzutów rezystywności krzemowych warstw epitaksjalnych w układach wielowarstwowych = The effective causes of the nanuniformity of the silicon epitaxial layers resistivity in multilayer structures
Przyczyny rozrzutów rezystywności krzemowych warstw epitaksjalnych w układach wielowarstwowych
Autorzy:
Tomaszewski Jacek
Współwytwórcy:
Korec Jacek
Brzozowski Andrzej
Nossarzewska-Orłowska Elżbieta
Data publikacji:
1981
Wydawca:
Wydaw. Przemysłu Maszynowego "WEMA"
Dostawca treści:
RCIN - Repozytorium Cyfrowe Instytutów Naukowych
Książka
Tytuł:
Materiały Elektroniczne 1995 T.23 nr 1
Wpływ zanieczyszczeń metalicznych na profil sygnału EBIC w krzemowych strukturach epitaksjalnych
Materiały Elektroniczne 1995T.23 nr 1
Wpływ zanieczyszczeń metalicznych na profil sygnału EBIC w krzemowych strukturach epitaksjalnych = Influence of metalic contaminations on EBIC signal profiles in silicon epilayers
Autorzy:
Pawłowska Marta
Data publikacji:
1995
Wydawca:
ITME
Dostawca treści:
RCIN - Repozytorium Cyfrowe Instytutów Naukowych
Książka
Tytuł:
Głębokie centra defektowe w krzemowych warstwach epitaksjalnych zanieczyszczonych żelazem
Głębokie centra defektowe w krzemowych warstwach epitaksjalnych zanieczyszczonych żelazem= Deep-level defects in Fe-contaminated epitaxial silicon
Materiały Elektroniczne 1995T.23 nr 1
Materiały Elektroniczne 1995 T.23 nr 1
Autorzy:
Plewa Dariusz
Współwytwórcy:
Kamiński Paweł
Kozłowski Roman
Data publikacji:
1995
Wydawca:
ITME
Dostawca treści:
RCIN - Repozytorium Cyfrowe Instytutów Naukowych
Książka
Tytuł:
Wpływ obecności Fe i Ni na własności krzemowych warstw epitaksjalnych = Influence of Ni and Fe on silicon epitaxial layers properties
Wpływ obecności Fe i Ni na własności krzemowych warstw epitaksjalnych
Materiały Elektroniczne 1994 T.22 nr 2
Autorzy:
Nossarzewska-Orłowska, Elżbieta
Nossarzewska-Orłowska Elżbieta
Współwytwórcy:
Skwarcz Jerzy
Sarnecki Jerzy
Wodzińska Halina
Data publikacji:
1994
Wydawca:
ITME
Dostawca treści:
RCIN - Repozytorium Cyfrowe Instytutów Naukowych
Książka
Tytuł:
Materiały Elektroniczne 1991 nr 3(75)
Wpływ getterowania laserowego na czas życia nośników mniejszościowych w krzemowej warstwie epitaksjalnej
Wpływ getterowania laserowego na czas życia nośników mniejszościowych w krzemowej warstwie epitaksjalnej = The effect of laser gettering on minority carier-lifetime in silicon epitaxial layers
Autorzy:
Sarnecki Jerzy
Współwytwórcy:
Niechoda Z.
Nowicki M.
Turos Andrzej
Siennicki A.
Data publikacji:
1991
Wydawca:
Wydaw. Przemysłu Maszynowego "WEMA"
Dostawca treści:
RCIN - Repozytorium Cyfrowe Instytutów Naukowych
Książka
Tytuł:
Metoda otrzymywania monokrystalicznych folii krzemowych z wykorzystaniem krzemu porowatego
A method of obtaining monocrystalline silicon foils using porous silicon
Autorzy:
Sarnecki, J.
Brzozowski, A.
Lipiński, D.
Tematy:
warstwa epitaksjalna
krzem porowaty
CVD
folia krzemowa
epitaxial layer
porous silicon
silicon foil
Pokaż więcej
Data publikacji:
2014
Wydawca:
Sieć Badawcza Łukasiewicz - Instytut Technologii Materiałów Elektronicznych
Dostawca treści:
Biblioteka Nauki
Artykuł
Tytuł:
Electronic Materials Vol. 42 Nr 1
Metoda otrzymywania monokrystalicznych folii krzemowych z wykorzystaniem krzemu porowatego
Materiały Elektroniczne. T. 42 Nr 1
Metoda otrzymywania monokrystalicznych folii krzemowych z wykorzystaniem krzemu porowatego = A method of obtaining monocrystalline silicon foils using porous silicon
Autorzy:
Sarnecki Jerzy
Współwytwórcy:
Lipiński Dariusz
Brzozowski Andrzej
Data publikacji:
2014
Wydawca:
ITME
Dostawca treści:
RCIN - Repozytorium Cyfrowe Instytutów Naukowych
Książka
    Wyświetlanie 1-7 z 7

    Ta witryna wykorzystuje pliki cookies do przechowywania informacji na Twoim komputerze. Pliki cookies stosujemy w celu świadczenia usług na najwyższym poziomie, w tym w sposób dostosowany do indywidualnych potrzeb. Korzystanie z witryny bez zmiany ustawień dotyczących cookies oznacza, że będą one zamieszczane w Twoim komputerze. W każdym momencie możesz dokonać zmiany ustawień dotyczących cookies