- Tytuł:
- Inverse RIE lag during silicon etching in SF₆ + O₂ plasma
- Autorzy:
- Knizikevičius, Rimantas (1972- ) Autor
- Tematy:
-
Reaktywne trawienie jonowe (RIE)
Heksafluorek siarki
Krzem
Plazma (fizyka)
Tlen - Pokaż więcej
- Data publikacji:
- 2020
- Dostawca treści:
- Academica
Artykuł