Temat: FinFET - Prolib Integro

Drogi użytkowniku, aplikacja do prawidłowego działania wymaga obsługi JavaScript. Proszę włącz obsługę JavaScript w Twojej przeglądarce.

Wyszukujesz frazę "FinFET" wg kryterium: Temat

Wyświetlanie 1-5 z 5

Zaznacz stronę

Skocz do pozycji: 1.

Tytuł:: Comparison of temperature distribution in nanosized transistors using modern heat transfer thermal model
Porównanie rozkładów temperatury w nanotranzystorach przy użyciu nowoczesnego modelu termicznego
Autorzy:: Raszkowski, Tomasz
Raszkowska, Agnieszka
Zubert, Mariusz
Tematy:: Dual-Phase-Lag model
nanosized structures
FinFETs
temperaturę distribution
Fourier-Kirchhoff model
model Dual-Phase-Lag
struktury nanometryczne
tranzystor FinFET
rozkład temperatury
model Fouriera-Kirchhoffa; Pokaż więcej
Data publikacji:: 2021-08-12
Wydawca:: Łódzkie Towarzystwo Naukowe
Dostawca treści:: Biblioteka Nauki

Artykuł

na półce

Szczegóły

Skocz do pozycji: 2.

Tytuł:: Ultra-low Power FinFET SRAM Cell with Improved Stability Suitable for Low Power Applications
Autorzy:: Birla, Shilpi
Tematy:: FinFET
RSNM
WSNM
hold margin
subthreshold
leakage power; Pokaż więcej
Data publikacji:: 2019
Wydawca:: Polska Akademia Nauk. Czytelnia Czasopism PAN
Dostawca treści:: Biblioteka Nauki

Artykuł

na półce

Szczegóły

Skocz do pozycji: 3.

Tytuł:: Capacitance/Resistance Modeling and Analog Performance Evaluation of 3-D SOI FinFET Structure for Circuit Perspective Applications
Autorzy:: Jain, Neeraj
Raj, Balwinder
Tematy:: CMOS
Integrated Circuits
Parasitic Capacitance
Parasitic Resistance
SOI FinFET; Pokaż więcej
Data publikacji:: 2018
Wydawca:: Przedsiębiorstwo Wydawnictw Naukowych Darwin / Scientific Publishing House DARWIN
Dostawca treści:: Biblioteka Nauki

Artykuł

na półce

Szczegóły

Skocz do pozycji: 4.

Tytuł:: Analysis of the Dispersion of Electrical Parameters and Characteristics of FinFET Devices
Autorzy:: Malinowski, A.
Tomaszewski, D.
Łukasiak, L.
Jakubowski, A.
Sekine, M.
Hori, M.
Korwin-Pawlowski, M. L.
Tematy:: FinFET
line edge roughness
parameter variability
plasma etching
technology computer aided design (TCAD); Pokaż więcej
Data publikacji:: 2009
Wydawca:: Instytut Łączności - Państwowy Instytut Badawczy
Dostawca treści:: Biblioteka Nauki

Artykuł

na półce

Szczegóły

Skocz do pozycji: 5.

Tytuł:: Semiconductor cleaning technology for next generation material systems
Autorzy:: Ruzyllo, J.
Tematy:: III-V compounds
FinFET
IC manufacturing
MEMS
MOS gate stack
semiconductor cleaning; Pokaż więcej
Data publikacji:: 2007
Wydawca:: Instytut Łączności - Państwowy Instytut Badawczy
Dostawca treści:: Biblioteka Nauki

Artykuł

na półce

Szczegóły

Wyświetlanie 1-5 z 5

Ta witryna wykorzystuje pliki cookies do przechowywania informacji na Twoim komputerze. Pliki cookies stosujemy w celu świadczenia usług na najwyższym poziomie, w tym w sposób dostosowany do indywidualnych potrzeb. Korzystanie z witryny bez zmiany ustawień dotyczących cookies oznacza, że będą one zamieszczane w Twoim komputerze. W każdym momencie możesz dokonać zmiany ustawień dotyczących cookies