Informacja

Drogi użytkowniku, aplikacja do prawidłowego działania wymaga obsługi JavaScript. Proszę włącz obsługę JavaScript w Twojej przeglądarce.

Wyszukujesz frazę "Ryc, L." wg kryterium: Autor


Wyświetlanie 1-6 z 6
Tytuł:
Metrology of Mo/Si multilayer mirrors at 13.5 nm with the use of a laser-produced plasma extreme ultraviolet (EUV) source based on a gas puff target
Współwytwórcy:
Ryć, L.
Bartnik, A.
Instytut Fizyki PAN
Instytut Fizyki Plazmy i Laserowej Mikrosyntezy im. Sylwestra Kaliskiego
Krzywiński, J.
Rakowski, R.
Fiedorowicz, H.
Wachulak, P.
Mikołajczyk, J.
Szczurek, M.
Kostecki, J.
Jarocki, R.
Wojskowa Akademia Techniczna im. Jarosława Dąbrowskiego. Instytut Optoelektroniki
Data publikacji:
2006
Dostawca treści:
Academica
Artykuł
    Wyświetlanie 1-6 z 6

    Ta witryna wykorzystuje pliki cookies do przechowywania informacji na Twoim komputerze. Pliki cookies stosujemy w celu świadczenia usług na najwyższym poziomie, w tym w sposób dostosowany do indywidualnych potrzeb. Korzystanie z witryny bez zmiany ustawień dotyczących cookies oznacza, że będą one zamieszczane w Twoim komputerze. W każdym momencie możesz dokonać zmiany ustawień dotyczących cookies