- Tytuł:
- Reliability of MIS transistors with plasma deposited Al2O3 gate dielectric film
- Autorzy:
-
Szmidt, J.
Werbowy, A.
Dusiński, E.
Zdunek, K. - Tematy:
-
MIS transistor
reliability
Al2O3 films
RPP method - Pokaż więcej
- Data publikacji:
- 2001
- Wydawca:
- Instytut Łączności - Państwowy Instytut Badawczy
- Dostawca treści:
- Biblioteka Nauki
Artykuł