- Tytuł:
- Gate dielectrics: process integration issues and electrical properties
- Autorzy:
- Schwalke, U.
- Tematy:
-
high-k dielectrics
CMOS
Pr2O3
process integration
resist removal
wet chemical cleaning
wet chemical etching
RIE - Pokaż więcej
- Data publikacji:
- 2005
- Wydawca:
- Instytut Łączności - Państwowy Instytut Badawczy
- Dostawca treści:
- Biblioteka Nauki
Artykuł