Drogi użytkowniku, aplikacja do prawidłowego działania wymaga obsługi JavaScript. Proszę włącz obsługę JavaScript w Twojej przeglądarce.

Tytuł pozycji:

Optymalizacja technologii MOCVD pod kątem poprawy morfologii powierzchni warstw HgCdTe

Szczegóły
Opis

Tytuł:: Optymalizacja technologii MOCVD pod kątem poprawy morfologii powierzchni warstw HgCdTe
Współwytwórcy:: Rogalski, Antoni
Madejczyk, Paweł
Gawron, Waldemar
Wojskowa Akademia Techniczna im. Jarosława Dąbrowskiego. Wydział Nowych Technologii i Chemii. Instytut Fizyki Technicznej
Kłos, Krzysztof
Data publikacji:: 2009
Język:: polski
Prawa:: http://www.europeana.eu/rights/rr-r/
Publikacja chroniona prawem autorskim - reprodukcja cyfrowa dostępna w czytelniach BN i na terminalach Academiki
Źródło:: Biblioteka Narodowa
Dostawca treści:: Academica
: Artykuł

Przejdź do źródła

Bibliogr.

Streszcz. ang.

Ta witryna wykorzystuje pliki cookies do przechowywania informacji na Twoim komputerze. Pliki cookies stosujemy w celu świadczenia usług na najwyższym poziomie, w tym w sposób dostosowany do indywidualnych potrzeb. Korzystanie z witryny bez zmiany ustawień dotyczących cookies oznacza, że będą one zamieszczane w Twoim komputerze. W każdym momencie możesz dokonać zmiany ustawień dotyczących cookies

Informacja

Optymalizacja technologii MOCVD pod kątem poprawy morfologii powierzchni warstw HgCdTe