Informacja

Drogi użytkowniku, aplikacja do prawidłowego działania wymaga obsługi JavaScript. Proszę włącz obsługę JavaScript w Twojej przeglądarce.

Tytuł pozycji:

Investigations of electron emission from DLC thin films deposited by means of RF PCVD at various self-bias voltages

Tytuł:
Investigations of electron emission from DLC thin films deposited by means of RF PCVD at various self-bias voltages
Autorzy:
Jarzyńska, D.
Znamirowski, Z.
Cłapa, M.
Starga, E.
Tematy:
DCL
RF PACVD
Raman spectroscopy
turn-on field
electron emission
effective work function
Data publikacji:
2007
Wydawca:
Instytut Łączności - Państwowy Instytut Badawczy
Język:
angielski
Prawa:
Wszystkie prawa zastrzeżone. Swoboda użytkownika ograniczona do ustawowego zakresu dozwolonego użytku
Źródło:
Journal of Telecommunications and Information Technology; 2007, 3; 39-43
1509-4553
1899-8852
Dostawca treści:
Biblioteka Nauki
Artykuł
  Przejdź do źródła  Link otwiera się w nowym oknie
The aim of this paper is to report the results of field emission experiments on undoped, flat diamond-like carbon (DLC) thin films deposited at various self-bias voltages using radio frequency plasma chemical vapor deposition (RF PCVD) technique. It has been observed that the emission properties improve when the absolute value of self-bias voltage becomes higher, e.g., the turn-on field value decreases. The correlation between electron field emission and sp2 content in these films showed improvement of electron emission properties of DLC films for higher amount of sp2 phase.

Ta witryna wykorzystuje pliki cookies do przechowywania informacji na Twoim komputerze. Pliki cookies stosujemy w celu świadczenia usług na najwyższym poziomie, w tym w sposób dostosowany do indywidualnych potrzeb. Korzystanie z witryny bez zmiany ustawień dotyczących cookies oznacza, że będą one zamieszczane w Twoim komputerze. W każdym momencie możesz dokonać zmiany ustawień dotyczących cookies