Isoelectric point of Si3N4 measured by an atomic force microscopy

Tytuł:: Isoelectric point of Si3N4 measured by an atomic force microscopy
Polish Journal of Chemistry. T. 74, no. 10 (2000)
Polish Journal of Chemistry, Vol. 74, no. 10 (2000)
Autorzy:: Liu, Z. -F.
Zhang, H.
He. H -X.
Współwytwórcy:: Polskie Towarzystwo Chemiczne.
Polska Akademia Nauk. Komitet Nauk Chemicznych.
Słowa kluczowe:: Czasopisma naukowe -- Polska -- 1970-2000. -- [KABA]
Czasopisma naukowe -- Polska -- 1990-. -- [KABA]
Chemia -- -- -- -- [KABA]
Data publikacji:: 2000
Wydawca:: PWN
Język:: angielski
polski
Linki:: https://rcin.org.pl/dlibra/publication/edition/34621/content Link otwiera się w nowym oknie
Prawa:: Rights Reserved - Restricted Access
Prawa zastrzeżone - dostęp ograniczony
Źródło:: IChF PAN, sygn. P.64
IChO PAN, sygn. P.54 Org.
IChF PAN, call no. P.64
cc96203657
http://195.187.71.9/ipac20/ipac.jsp?profile=ichfpan&index=BOCLC&term=cc96203657
IChF PAN, call no. P.54 Org.
Dostawca treści:: RCIN - Repozytorium Cyfrowe Instytutów Naukowych
: Książka

Przejdź do źródła

s. 1499-1502

s. 1499-152

Informacja